特許

J-GLOBAL ID：200903073982608786

欠陥検査方法及び装置

発明者： 横山 廣一 ,  西峯 保
出願人/特許権者： 住友金属工業株式会社
代理人 (1件)： 大中 実
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-127219
公開番号（公開出願番号）：特開2004-333223
出願日： 2003年05月02日
公開日（公表日）： 2004年11月25日
要約：

【課題】高精度に欠陥を検査することのできる方法及び装置を提供する。【解決手段】本発明に係る欠陥検査装置1は、被検査物Sから得られた検査信号を画像化し、当該検査画像に空間フィルタを適用することによって欠陥を検査する画像処理手段12を備えた装置である。画像処理手段12は、前記検査画像について、注目画素を基準として予め決定した所定位置に位置する画素の濃度を抽出するステップと、前記抽出した濃度に基づき、前記注目画素に空間フィルタを適用するか否かを判断するステップと、空間フィルタを適用すると判断した注目画素に対してのみ、空間フィルタを適用するステップとを実行する。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

被検査物から得られた検査信号を画像化し、当該検査画像に空間フィルタを適用することによって欠陥を検査する方法であって、 前記検査画像について、注目画素を基準として予め決定した所定位置に位置する画素の濃度を抽出するステップと、 前記抽出した濃度に基づき、前記注目画素に空間フィルタを適用するか否かを判断するステップと、 空間フィルタを適用すると判断した注目画素に対してのみ、空間フィルタを適用するステップとを含むことを特徴とする欠陥検査方法。

IPC (4件)：

G01N21/892 ,  G01N21/88 ,  G06T1/00 ,  G06T5/20

FI (4件)：

G01N21/892 B ,  G01N21/88 J ,  G06T1/00 300 ,  G06T5/20 A

Fターム (30件)：

2G051AA37 ,  2G051AB02 ,  2G051BA20 ,  2G051CA04 ,  2G051DA06 ,  2G051EA11 ,  2G051EA12 ,  2G051EA16 ,  2G051EC02 ,  2G051ED08 ,  2G051ED14 ,  2G051ED21 ,  5B057AA01 ,  5B057BA02 ,  5B057CA08 ,  5B057CA12 ,  5B057CA16 ,  5B057CB08 ,  5B057CB12 ,  5B057CB16 ,  5B057CE02 ,  5B057CE03 ,  5B057CE05 ,  5B057CE06 ,  5B057CH18 ,  5B057DA03 ,  5B057DB02 ,  5B057DB09 ,  5B057DC22 ,  5B057DC36