特許
J-GLOBAL ID：200903073986231113
電子放出素子及び電子源及び画像形成装置の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山下 穣平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-312108
公開番号（公開出願番号）：特開平9-326231
出願日： 1996年11月22日
公開日（公表日）： 1997年12月16日
要約：
【要約】【課題】 工程の簡略化を行うことで安価な電子放出素子の製造方法を提供するとともに、安定で、十分な電子放出量のある高性能の電子放出素子、および電子源を、容易に形成でき、明るく、安定な画像形成装置などを提供する。【解決手段】 基体1上に形成された素子電極2,3と、電子放出部5を有する導電性薄膜4からなる電子放出素子において、少なくともダイアモンド微粒子6を有する溶液を、インクジェット法により、付与する工程を有することを特徴とする電子放出素子の製造方法。また、ダイアモンド微粒子6と上記導電性薄膜4の形成材料を有する溶液を、インクジェット法により、上記導電性薄膜4を形成すべき部位に付与することにより、該導電性薄膜4を形成する工程を有することを特徴とする電子放出素子の製造方法。
請求項（抜粋）：
基体上に形成された対向する一対の素子電極と、電子放出部を有する導電性薄膜からなる電子放出素子の製造方法において、少なくともダイアモンド微粒子を有する溶液を、インクジェット法により、付与する工程を有することを特徴とする電子放出素子の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01J 9/02 B
, H01J 1/30 A
