特許

J-GLOBAL ID：200903073988109129

非蒸発性ゲッタ-及びその製造方法、画像形成装置

発明者： 石倉 淳理 ,  五福 伊八郎 ,  長谷川 光利
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 山下 穣平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-006940
公開番号（公開出願番号）：特開2000-208033
出願日： 1999年01月13日
公開日（公表日）： 2000年07月28日
要約：

【要約】【課題】 画像形成装置内で発生したガスを即座に吸着する高性能のゲッターを提供し、輝度の経時的変化及びバラツキの少ない画像形成装置の提供を目的とする。また、他の素子にダメージを与えない範囲の低温でゲッターを形成でき、更に、簡単、低コスト、任意の位置に形成可能という、様々なプロセスに対応できるゲッターの製造方法を提供することである。【解決手段】 超微粒子生成室、膜形成室、搬送管で構成され、超微粒子生成室において不活性ガス雰囲気中で加熱されて生成された金属超微粒子を圧力差により搬送管を通じて膜形成室に導き、ノズルから高速噴射させることによって直接パターンを描画するガスデポジション法により形成された非蒸発性ゲッター及びその製造方法、及び画像形成装置。

請求項（抜粋）：

ガスデポジション法により形成されたことを特徴とする非蒸発性ゲッター。

IPC (4件)：

H01J 7/18 ,  B01J 19/00 ,  H01J 29/94 ,  H01J 31/12

FI (4件)：

H01J 7/18 ,  B01J 19/00 K ,  H01J 29/94 ,  H01J 31/12 C

Fターム (21件)：

4G075AA24 ,  4G075AA27 ,  4G075BC10 ,  4G075CA02 ,  4G075CA17 ,  4G075CA39 ,  4G075CA63 ,  4G075EB01 ,  4G075EC01 ,  5C032AA07 ,  5C032JJ08 ,  5C032JJ10 ,  5C035AA20 ,  5C035JJ10 ,  5C036EE17 ,  5C036EE19 ,  5C036EF01 ,  5C036EF06 ,  5C036EF09 ,  5C036EG36 ,  5C036EH11

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 熱噴射式プラズマ装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-251681   出願人：エレクトロプラズマインコーポレーテッド