特許

J-GLOBAL ID：200903073990476694

ポジ型レジスト組成物

発明者： 藤森 亨
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (5件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  濱田 百合子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-039827
公開番号（公開出願番号）：特開2004-251975
出願日： 2003年02月18日
公開日（公表日）： 2004年09月09日
要約：

【課題】ラインエッジラフネスにおいて優れ、スカムが改善されたポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(B)アルカリ現像液に対して不溶性あるいは難溶性であり、酸の作用でアルカリ現像液に可溶性となる樹脂及び(C)少なくとも1つの環状エーテル基と、少なくとも1つの脂環基とを有する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、 (B)アルカリ現像液に対して不溶性あるいは難溶性であり、酸の作用でアルカリ現像液に可溶性となる樹脂及び (C)少なくとも1つの環状エーテル基と、少なくとも1つの脂環基とを有する化合物 を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (3件)：

G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

FI (3件)：

G03F7/004 501 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R

Fターム (15件)：

2H025AA03 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB10 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17