特許

J-GLOBAL ID：200903074008372429

オキシダント除去装置及びこれを備えた海水処理装置

発明者： 水谷 淳二
出願人/特許権者： 株式会社ササクラ
代理人 (1件)： 景山 憲二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-319870
公開番号（公開出願番号）：特開2001-137867
出願日： 1999年11月10日
公開日（公表日）： 2001年05月22日
要約：

【要約】【課題】 新たな廃棄物の発生等の問題のないオキシダント処理装置及びこれを装備した海水処理装置を提供する。【解決手続】 海水処理装置は、水槽100の海水をオゾンで処理する装置であり、電解式オゾン発生装置1、オゾン処理系2、水素反応塔4から成るオキシダント除去装置3、等で構成されている。水素反応塔4は、触媒としてパラジウムが充填された反応部41を有し、ここにオキシダントの残留した海水とオゾン発生装置で発生した水素とが導入される。【効果】 オキシダントが水素で還元されブロムイオンとなって処理される。オゾン発生装置の副産物である水素を活用でき、海水のオゾン処理時におけるオキシダント除去のための運転コストが発生しない。使用済みの活性炭のような新たな廃棄物も発生しない。

請求項（抜粋）：

オキシダントを含む被処理水から前記オキシダントを除去するオキシダント除去装置において、水素反応容器であって、触媒の充填された反応部と、該反応部で前記被処理水と水素とが接触するように前記被処理水と前記水素とが導入される被処理水導入部と水素導入部と、前記被処理水が前記水素と接触して処理水となって排出される処理水排出部と、を備えた水素反応容器を有することを特徴とするオキシダント除去装置。

IPC (3件)：

C02F 1/70 ,  C02F 1/78 ,  C25B 1/02

FI (3件)：

C02F 1/70 Z ,  C02F 1/78 ,  C25B 1/02

Fターム (24件)：

4D050AA06 ,  4D050AB06 ,  4D050AB14 ,  4D050AB17 ,  4D050AB32 ,  4D050AB44 ,  4D050BA14 ,  4D050BB02 ,  4D050BC04 ,  4D050BD02 ,  4D050BD04 ,  4D050BD06 ,  4D050BD08 ,  4D050CA03 ,  4D050CA10 ,  4K021AA01 ,  4K021AA09 ,  4K021AB15 ,  4K021BA02 ,  4K021CA11 ,  4K021DB31 ,  4K021DC03 ,  4K021DC07 ,  4K021DC11