特許
J-GLOBAL ID:200903074011191958

プラズマ処理容器内部材およびその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小川 順三 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-351546
公開番号(公開出願番号):特開2001-164354
出願日: 1999年12月10日
公開日(公表日): 2001年06月19日
要約:
【要約】【課題】 耐プラズマエロージョン性に優れるプラズマ処理容器内部材と、その有利な製造方法とを提案する。【解決手段】 基材の表面が、アンダーコートとして形成された金属皮膜と、そのアンダーコート上に中間層として形成された Al2O3皮膜と、そしてその中間層上にトップコートとして形成されたY2O3溶射皮膜とからなる多層状複合層によって被覆されている。
請求項(抜粋):
基材の表面がY2O3溶射皮膜によって被覆されていることを特徴とする、プラズマ処理容器内部材。
IPC (5件):
C23C 4/10 ,  C23C 14/00 ,  C23C 16/06 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/31
FI (5件):
C23C 4/10 ,  C23C 14/00 C ,  C23C 16/06 ,  H01L 21/31 C ,  H01L 21/302 B
Fターム (42件):
4K029AA02 ,  4K029BA26 ,  4K029BC01 ,  4K029DA01 ,  4K029GA03 ,  4K030BA02 ,  4K030BA14 ,  4K030CA02 ,  4K030KA47 ,  4K030LA01 ,  4K031AA01 ,  4K031AA08 ,  4K031AB02 ,  4K031AB03 ,  4K031AB04 ,  4K031BA01 ,  4K031BA05 ,  4K031CB07 ,  4K031CB11 ,  4K031CB12 ,  4K031CB14 ,  4K031CB21 ,  4K031CB23 ,  4K031CB24 ,  4K031CB26 ,  4K031CB39 ,  4K031CB42 ,  4K031CB43 ,  4K031DA04 ,  5F004AA13 ,  5F004AA15 ,  5F004BC08 ,  5F004BD04 ,  5F004BD05 ,  5F004DA11 ,  5F004DA17 ,  5F045AA08 ,  5F045AA18 ,  5F045AA19 ,  5F045AC05 ,  5F045BB15 ,  5F045EB03
引用特許:
審査官引用 (7件)
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