特許

J-GLOBAL ID：200903074012888260

窒素除去装置

発明者： 中野 一郎 ,  丸山 裕司
出願人/特許権者： 株式会社クボタ
代理人 (1件)： 森本 義弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-099768
公開番号（公開出願番号）：特開平11-290882
出願日： 1998年04月13日
公開日（公表日）： 1999年10月26日
要約：

【要約】【課題】 硝化菌固定化担体を槽内に保持できるとともに良好に流動させることができ、かつ維持管理が容易な窒素除去装置を提供する。【解決手段】 処理水流出部を囲んで垂直方向に担体分離スクリーン15を設け、担体分離スクリーン15の近傍の上流側位置に仕切壁17を設け、仕切壁17より上流側の下部に散気装置14を設置することにより、仕切壁17より上流側に曝気処理領域18を形成し、下流側に、曝気処理領域18に上端開口17aで連通する下向流路19を形成する。担体分離スクリーン15としては、ウェッジワイヤスクリーンを垂直方向に配置する。担体分離スクリーン15に沿う下向流となるため、担体やし渣・ゴミ等が付着しにくい。

請求項（抜粋）：

硝化菌固定化担体を流動状態に保持する好気槽の内部に、処理水流出部を囲んで垂直方向に担体分離スクリーンを設けるとともに、前記担体分離スクリーンの近傍の上流側位置に、上端開口と下端開口とを有する仕切壁を設け、前記仕切壁より上流側に散気装置を設置することにより、仕切壁より上流側に曝気処理領域を形成し、仕切壁より下流側に、曝気処理領域に連通する下向流路を形成し、前記担体分離スクリーンとしてウェッジワイヤスクリーンを用いたことを特徴とする窒素除去装置。

IPC (3件)：

C02F 3/08 ZAB ,  C02F 3/22 ,  C02F 3/34 101

FI (3件)：

C02F 3/08 ZAB B ,  C02F 3/22 D ,  C02F 3/34 101 D

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 廃水処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-275477   出願人：日立プラント建設株式会社
• 汚水の処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-158698   出願人：日立プラント建設株式会社, 日本下水道事業団
• 深層曝気槽
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-208562   出願人：株式会社荏原製作所