特許
J-GLOBAL ID：200903074016267804
基板洗浄槽
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
樺山 亨 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-029313
公開番号（公開出願番号）：特開平5-299406
出願日： 1991年01月29日
公開日（公表日）： 1993年11月12日
要約：
【要約】〔目的〕洗浄槽の中で半導体基板を洗浄した後、該基板を取り出すときに、一度遊離したゴミが再付着するのを防止する。〔構成〕洗浄液を整流する流入液整流板と流出液整流板とが基板を間に配置した形で槽底面に対してどちらも垂直方向に対向するように設けられており、洗浄液は基板の面に沿って水平方向に流れて流出する。
請求項（抜粋）：
【請持項1】洗浄液供給口と、外洗浄液供給口から供給された洗浄液を整流してキャリアに設置した基板の方へ向けるための複数の流入孔を有する流入液整流板と、槽底面に設けられた振動板とを備えた基板洗浄槽において、前記流入液整流板は前記槽底面に対して垂直方向に設けられており、且つ前記流入孔を通過した洗浄液が前記基板の面に沿って水平方向に流れた後、外部へ流出させるための複数の流出孔を有する流出液整流板が前記流入液整流板に平行して設けられていることを特徴とする基板洗浄槽。
IPC (4件)：
H01L 21/304 341
, H01L 21/304
, B05C 5/00 101
, B08B 3/04
