特許

J-GLOBAL ID：200903074027585891

アナターゼ型酸化チタンの固定化方法

発明者： 音石 真二 ,  丹下 善弘 ,  松田 ▲ひで▼明
出願人/特許権者： 大倉工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-034278
公開番号（公開出願番号）：特開2001-226757
出願日： 2000年02月14日
公開日（公表日）： 2001年08月21日
要約：

【要約】【課題】溶射法を用いてアナターゼ型酸化チタンを基材表面に固定化するにおいて、光触媒活性の高いアナターゼ型酸化チタンをその結晶構造を大きく変化させることなく、しかも基材表面に均一に固定化させることができる方法を提供すること。【解決手段】金属粒子とアナターゼ型酸化チタン粒子を混合して得られる複合粒子を基材表面にガス溶射することを特徴とするアナターゼ型酸化チタンの固定化方法。

請求項（抜粋）：

金属粒子とアナターゼ型酸化チタン粒子を混合して得られる複合粒子を基材表面にガス溶射することを特徴とするアナターゼ型酸化チタンの固定化方法。

IPC (8件)：

C23C 4/04 ,  B01J 23/06 ,  B01J 35/02 ZAB ,  B01J 37/02 301 ,  B22F 7/04 ,  C04B 41/61 ,  C04B 41/69 ,  E04B 1/92

FI (8件)：

C23C 4/04 ,  B01J 23/06 M ,  B01J 35/02 ZAB J ,  B01J 37/02 301 Q ,  B22F 7/04 B ,  C04B 41/61 ,  C04B 41/69 ,  E04B 1/92

Fターム (45件)：

2E001DH01 ,  2E001DH21 ,  2E001DH23 ,  2E001GA03 ,  2E001GA23 ,  2E001HB01 ,  2E001HB07 ,  2E001HB08 ,  4G028BA01 ,  4G028DA01 ,  4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069BA04A ,  4G069BA04B ,  4G069BA16B ,  4G069BA18 ,  4G069BA48A ,  4G069BB02A ,  4G069BB02B ,  4G069BC35A ,  4G069BC35B ,  4G069CA01 ,  4G069CA11 ,  4G069EB18X ,  4G069EB18Y ,  4G069EC22X ,  4G069EC22Y ,  4G069EC28 ,  4G069EC29 ,  4G069FA03 ,  4G069FB07 ,  4G069FB22 ,  4K018AB01 ,  4K018AC01 ,  4K018BA10 ,  4K018BA20 ,  4K018BB04 ,  4K018BC28 ,  4K018BD09 ,  4K031AA01 ,  4K031AB11 ,  4K031CB15 ,  4K031CB31 ,  4K031CB42 ,  4K031DA01