特許

J-GLOBAL ID：200903074029611881

微細加工方法

発明者： 矢野 亨治 ,  池田 勉
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 長尾 達也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-055186
公開番号（公開出願番号）：特開2001-246600
出願日： 2000年03月01日
公開日（公表日）： 2001年09月11日
要約：

【要約】【課題】ナノメートルオーダで電気的特性の制御を行なうことができ、微細な導電性部分を形成することが可能な微細加工方法を提供すること。【解決手段】走査型プローブを用い、表面が酸化物である加工媒体を微細加工する微細加工方法であって、前記加工媒体を還元雰囲気中に配置し、前記加工媒体表面に対向して配置した前記走査型プローブの探針を介して電圧を印加し、前記加工媒体表面の酸化物の前記探針直下の部分を還元して加工媒体を微細加工する。

請求項（抜粋）：

走査型プローブを用い、表面が酸化物である加工媒体を微細加工する微細加工方法であって、前記加工媒体を還元雰囲気中に配置し、前記加工媒体表面に対向して配置した前記走査型プローブの探針を介して電圧を印加し、前記加工媒体表面の酸化物の前記探針直下の部分を還元する微細加工方法。

IPC (5件)：

B82B 3/00 ,  G01N 13/10 ,  G01N 13/12 ,  G01N 13/16 ,  H01L 21/3205

FI (5件)：

B82B 3/00 ,  G01N 13/10 D ,  G01N 13/12 ,  G01N 13/16 ,  H01L 21/88 B

Fターム (6件)：

5F033HH11 ,  5F033QQ68 ,  5F033UU01 ,  5F033VV07 ,  5F033XX03 ,  5F033XX23