特許
J-GLOBAL ID：200903074031947226
プラズマ化学反応装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐藤 一雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-180282
公開番号（公開出願番号）：特開平8-038881
出願日： 1994年08月01日
公開日（公表日）： 1996年02月13日
要約：
【要約】【目的】 多孔質体の放電ギャップ長を小さくして電子エネルギーを高めることにより、高効率のプラズマ化学反応を生じさせる。【構成】 一対の電極8,9に電源10から高電圧が印加され、この一対の電極8,9間の間隙にガス送風装置13から原料ガス11が送り込まれる。一対の電極8,9間の間隙に、セラミック体6が設けられ、セラミック体6の気孔7はセラミック体6を貫通する。気孔7において放電が発生し、この放電により原料ガス11がプラズマ反応に処理され、処理ガス12として排出される。
請求項（抜粋）：
一対の電極と、この一対の電極に高電圧を印加する電源と、前記一対の電極間の間隙内に設けられ、貫通する気孔を内部に有する誘電性多孔質体と、前記一対の電極間の多孔質体に原料ガスを送り込み、多孔質体の気孔により形成された放電ギャップに生じるプラズマ化学反応により原料ガスを処理し、処理ガスを排出するガス送風装置と、を備えたことを特徴とするプラズマ化学反応装置。
IPC (4件)：
B01J 19/08
, C01B 15/01
, H01T 23/00
, C01B 13/11
