特許
J-GLOBAL ID：200903074044074353
円偏光X線を用いた磁区観察法及びその装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-207803
公開番号（公開出願番号）：特開平5-045304
出願日： 1991年08月20日
公開日（公表日）： 1993年02月23日
要約：
【要約】【目的】本発明は試料の磁化分布を計測する方法に関するものであり、とくにX線顕微法において強磁性体試料内部の磁化を計測する手法を提供するものである。【構成】試料に円偏光X線を照射したときの、右回り円偏光X線と左回り円偏光X線での吸収係数の違い(X線領域における磁気円二色性)を画像情報として利用することによって達成される。【効果】電子線や可視光が透過しないような厚い不透明な試料であっても内部の磁化を検出して画像化出来る。
請求項（抜粋）：
X線を試料に照射してその吸収コントラストによって画像を計測するX線顕微法において、試料の実質的に同一の場所に右回り及び左回りの円偏光X線を入射させ、さらにこの右回り円偏光と左回り円偏光における吸収の差である磁気円二色性を求め、これによって試料の内部磁化を検出することを特徴とする磁区観察法。
IPC (3件)：
G01N 23/04
, G21K 1/06
, G21K 7/00
