特許

J-GLOBAL ID：200903074047538350

感放射線性樹脂組成物

発明者： 佐野 公康 ,  宮島 史尚 ,  下川 努
出願人/特許権者： ジェイエスアール株式会社
代理人 (1件)： 小島 清路
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-067307
公開番号（公開出願番号）：特開2002-268212
出願日： 2001年03月09日
公開日（公表日）： 2002年09月18日
要約：

【要約】【課題】 本発明は、解像度、現像性、耐熱性、パターン形状、露光マージン及びフォーカス許容性の各特性に優れるとともに、これらの特性のバランスが良く、ポジ型レジストとして好適な感放射線性樹脂組成物を提供する。【解決手段】 (A)特定の第一のフェノール類(2,4ジメチルフェノール、2-メチル-4-エチルフェノール等)と、第二のフェノール類(m-クレゾール、p-クレゾール及び2,5-ジメチルフェノール等)と、アルデヒドとを縮合して得られるアルカリ可溶性ノボラック樹脂、並びに(B)ヒドロキシル基の隣接した位置に4級炭素に相当する構造を有するフェノール化合物のキノンジアジドスルホン酸エステル化合物、を含有する。

請求項（抜粋）：

(A)下記一般式(1)で表される少なくとも1種のフェノール類と、フェノール、o-クレゾール、m-クレゾール、p-クレゾール、2,3-ジメチルフェノール、2,5-ジメチルフェノール、2,6-ジメチルフェノール、3,4-ジメチルフェノール、3,5-ジメチルフェノール、2,3,5-トリメチルフェノール、3,4,5-トリメチルフェノール、レゾルシノール、2-メチルレゾルシノール、4-エチルレゾルシノール、ハイドロキノン、メチルハイドロキノン、カテコール、4-メチル-カテコール、ピロガロール、フロログルシノール、チモール及びイソチモールからなる群のうちの少なくとも1種のフェノール類と、アルデヒドとを縮合して得られるアルカリ可溶性ノボラック樹脂、並びに(B)ヒドロキシル基の隣接した位置に4級炭素に相当する構造を有するフェノール化合物のキノンジアジドスルホン酸エステル化合物、を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。【化1】[式中、R1及びR2は、同一又は異なり、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基又はアリール基である]

IPC (6件)：

G03F 7/022 601 ,  C08K 5/42 ,  C08L 61/06 ,  G03F 7/023 511 ,  H01L 21/027 ,  C08G 8/12

FI (6件)：

G03F 7/022 601 ,  C08K 5/42 ,  C08L 61/06 ,  G03F 7/023 511 ,  C08G 8/12 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (25件)：

2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA04 ,  2H025AA10 ,  2H025AB16 ,  2H025AC01 ,  2H025AC04 ,  2H025AD03 ,  2H025BE01 ,  2H025CB29 ,  4J002CC041 ,  4J002CC051 ,  4J002CC061 ,  4J002EQ036 ,  4J002EV246 ,  4J002GP03 ,  4J033CA02 ,  4J033CA11 ,  4J033CA12 ,  4J033CA14 ,  4J033CA29 ,  4J033CC03 ,  4J033CC08 ,  4J033CC09 ,  4J033HB10