特許
J-GLOBAL ID:200903074048390055

露光パターンデータの生成方法と荷電ビーム露光装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 鈴江 武彦 (外6名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-075066
公開番号(公開出願番号):特開2000-269123
出願日: 1999年03月19日
公開日(公表日): 2000年09月29日
要約:
【要約】【課題】 ショット間,フィールド間の露光パターンの位置のずれに起因するレジストパターンの寸法変動を抑制することができ、信頼性及び歩留まりの向上に寄与する。【解決手段】 電子ビーム露光用の露光パターンデータを生成するための露光パターンデータ生成方法において、電子ビームによるショットの重なり量を変化させたショットパターンに対する蓄積エネルギーを計算するステップS5と、S5で得られた蓄積エネルギー分布から現像計算を行うステップS6と、S6の計算結果からパターンの所望部分を指定して寸法を測定するステップS7と、ショットの重なり量と測定された寸法との関係からショットパターンの最適な重なり量を決定するステップと、決定された最適な重なり量を考慮して電子ビーム露光の際の露光パターンデータを生成するステップとを有する。
請求項(抜粋):
荷電ビームによるショットパターンの重なり量と該重なり量で形成されるレジストパターンの前記重なり部分の寸法との関係を求める工程と、前記求められた関係からショットパターンの最適な重なり量を決定する工程と、前記決定された最適な重なり量を考慮して荷電ビーム露光の際の露光パターンデータを生成する工程とを含むことを特徴とする露光パターンデータの生成方法。
IPC (4件):
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 7/20 521 ,  H01J 37/147
FI (4件):
H01L 21/30 541 M ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 7/20 521 ,  H01J 37/147 C
Fターム (14件):
2H097AA03 ,  2H097AA11 ,  2H097BB01 ,  2H097BB03 ,  2H097CA16 ,  2H097EA02 ,  2H097GB04 ,  2H097LA10 ,  5C033GG03 ,  5F056AA04 ,  5F056AA06 ,  5F056CA30 ,  5F056CB13 ,  5F056CC09

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