特許
J-GLOBAL ID:200903074049623070

ポリアミド酸エステル組成物

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-336536
公開番号(公開出願番号):特開2005-105011
出願日: 2003年09月26日
公開日(公表日): 2005年04月21日
要約:
【課題】 ポリイミド塗膜としてきわめて低い残留応力を与えうるポリアミド酸エステル組成物、及び該組成物を用いたポリイミドパターンの形成方法を提供する【解決手段】 下記一般式(1)で表される繰り返し単位を包含するポリアミド酸エステル100質量部と、(b)籠状シルセスキオキサン、又は籠状シルセスキオキサンの部分開裂構造体の少なくとも一種を0.1〜90質量部と、(c)溶媒からなることを特徴とするポリアミド酸エステル組成物。【化1】【選択図】 選択図なし
請求項(抜粋):
(a)下記一般式(1)で表される繰り返し単位を包含するポリアミド酸エステル100質量部と、
IPC (4件):
C08L79/04 ,  C08L83/04 ,  G03F7/027 ,  G03F7/075
FI (4件):
C08L79/04 Z ,  C08L83/04 ,  G03F7/027 514 ,  G03F7/075 521
Fターム (20件):
2H025AA00 ,  2H025AA13 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025BC69 ,  2H025CA00 ,  2H025CB33 ,  2H025CC20 ,  2H025FA29 ,  4J002CM04W ,  4J002CP03X ,  4J002CP04X ,  4J002CP07X ,  4J002CP09X ,  4J002CP12X ,  4J002GP03 ,  4J002GQ00 ,  4J002HA03
引用特許:
出願人引用 (2件)
  • 特公昭59-52822号公報
  • 特公平4-623062号公報

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