ステンシル・マスク

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴木喜三郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-239680
公開番号（公開出願番号）：特開平6-089849
出願日： 1992年09月08日
公開日（公表日）： 1994年03月29日
要約：

【要約】【目的】生産性の高いステンシル・マスクの構造と製造方法を提供する。【構成】投影型イオン・ビーム露光に用いるステンシル・マスクを、メッシュ状のスクリーン12にマスクパターン13が引懸けて構成する。スクリーン12は線幅0.1μm,線間隔0.3μm〜0.5μm程度で厚さ0.1μm程度のシリコン酸化膜、シリコン窒化膜、ダイヤモンド膜、アルミナ膜などの絶縁膜や、シリコン膜、チタン膜、ニッケル膜、タンタル膜、タングステン膜やモリブデン膜などの半導体膜や金属膜などをホト・エッチングなどでメッシュ状に形成する。マスクパターン13も0.3μm〜1μm厚のシリコン膜、チタン膜、ニッケル膜、タンタル膜、タングステン膜やモリブデン膜などの半導体膜や金属膜などを最小線幅0.3μm程度にホト・エッチングで形成する。フレーム11はシリコンやパイレックス・ガラスあるいは石英ガラスなどで構成する。

請求項（抜粋）：

第1の材料から成るスクリーン上には第2の材料から成るマスクパターンが形成されて成ることを特徴とするステンシル・マスク。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , B41N 1/24 , G03F 1/16

FI (2件)：

H01L 21/30 341 B , H01L 21/30 351

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