特許
J-GLOBAL ID：200903074076447402
露光用反射型マスクブランク、その製造方法及び露光用反射型マスク
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
阿仁屋 節雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-054714
公開番号（公開出願番号）：特開2003-257824
出願日： 2002年02月28日
公開日（公表日）： 2003年09月12日
要約：
【要約】【課題】多層反射膜の経時変化を防止した、信頼性の高い反射型マスク及びそれを製造するための反射型マスクブランクの提供。【解決手段】基板上に光を反射する多層反射膜を有し、多層反射膜上に光を吸収する吸収膜を有する露光用反射型マスクブランク又は反射型マスクにおいて、多層反射膜の側面に、保護層を設けた。
請求項（抜粋）：
基板と、該基板上に順次形成された露光光を反射する多層反射膜と露光光を吸収する吸収膜を備え、前記多層反射膜は屈折率が異なる重元素材料膜と軽元素材料膜とを交互に積層してなる露光用反射型マスクブランクであって、前記多層反射膜の中の少なくとも重元素材料膜の周縁端部を保護する保護層を有することを特徴とする露光用反射型マスクブランク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F 1/16 A
, H01L 21/30 531 M
2H095BA01
, 2H095BA10
, 2H095BB01
, 2H095BC24
, 2H095BC26
, 5F046GD01
, 5F046GD10
