特許
J-GLOBAL ID：200903074079048720

露光装置およびデバイス製造方法

発明者：
川又 健二

川又 健二 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (2件)： 齋藤 和則 ,  伊東 哲也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-144265
公開番号（公開出願番号）：特開2008-300578
出願日： 2007年05月30日
公開日（公表日）： 2008年12月11日
要約：
【課題】 現像後のレジストにおける線幅のばらつきを低減させるための技術を提供する。【解決手段】 ウェハに対するレジストの塗布および前記ウェハに塗布されたレジストの現像を行う塗布現像装置との間で前記ウェハの受け渡しを行い、前記ウェハに塗布されたレジストを露光する露光装置であって、前記ウェハの露光が終了する第1の時刻に基づき、前記ウェハの露光後かつ前記レジストの現像前に前記塗布現像装置において行われる加熱処理を開始させるべき第2の時刻を算出し、前記第2の時刻の情報を前記塗布現像装置に送信する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
ウェハに対するレジストの塗布および前記ウェハに塗布されたレジストの現像を行う塗布現像装置との間で前記ウェハの受け渡しを行い、前記ウェハに塗布されたレジストを露光する露光装置であって、 前記ウェハの露光が終了する第1の時刻に基づき、前記ウェハの露光後かつ前記レジストの現像前に前記塗布現像装置において行われる加熱処理を開始させるべき第2の時刻を算出し、 前記第2の時刻の情報を前記塗布現像装置に送信する、 ことを特徴とする露光装置。
IPC (1件)：
H01L 21/027
FI (2件)：
H01L21/30 514E ,  H01L21/30 568
Fターム (6件)：
5F046AA17 ,  5F046BA04 ,  5F046BA05 ,  5F046CD01 ,  5F046DD06 ,  5F046KA10
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (10件)
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