特許

J-GLOBAL ID：200903074089378779

ビーム照射装置のメンテナンス方法

発明者： 桑原 一 ,  宝来 寛
出願人/特許権者： 石川島播磨重工業株式会社
代理人 (1件)： 絹谷 信雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-143316
公開番号（公開出願番号）：特開2002-343736
出願日： 2001年05月14日
公開日（公表日）： 2002年11月29日
要約：

【要約】【課題】 メンテナンス後、直ちに装置を立ち上げることができ、装置内部を容易にクリーニングできるビーム照射装置のメンテナンス方法を提供することにある。【解決手段】 プラズマ発生室3内の材料ガスGをプラズマ化し、これを引出電極4を通して真空チャンバ6内の基板等の照射対象物2にビーム照射するビーム照射装置1のメンテナンス方法において、一定時間照射使用後に、真空チャンバ6内に不活性ガスRを導入し、真空チャンバ6内に付着した材料ガス成分で形成された絶縁膜Mを不活性ガスビームによるスパッタで絶縁膜Mを除去するものである。

請求項（抜粋）：

プラズマ発生室内の材料ガスをプラズマ化し、これを引出電極を通して真空チャンバ内の基板等の照射対象物にビーム照射するビーム照射装置のメンテナンス方法において、一定時間照射使用後に、真空チャンバ内に不活性ガスを導入し、真空チャンバ内に付着した材料ガス成分で形成された絶縁膜を不活性ガスビームによるスパッタで絶縁膜を除去することを特徴とするビーム照射装置のメンテナンス方法。

IPC (5件)：

H01L 21/265 603 ,  H01J 37/16 ,  H01J 37/317 ,  H01L 21/3065 ,  H05H 1/24

FI (5件)：

H01L 21/265 603 C ,  H01J 37/16 ,  H01J 37/317 Z ,  H05H 1/24 ,  H01L 21/302 N

Fターム (7件)：

5C034CC07 ,  5C034CC19 ,  5F004AA15 ,  5F004BD06 ,  5F004DA23 ,  5F004DB00 ,  5F004FA02