特許
J-GLOBAL ID:200903074089460912

ポジ型フォトレジスト組成物

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 萩野 平 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-194880
公開番号(公開出願番号):特開平9-043840
出願日: 1995年07月31日
公開日(公表日): 1997年02月14日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】 高感度で露光ラチチュード及び露光量の変化による線幅変動率に優れているポジ型フォトレジスト組成物を提供する。【解決手段】 アルカリ可溶性樹脂、キノンジアジド化合物及び一般式(I)で表される化合物を含有するポジ型フォトレジスト組成物。R1〜R15:同一又は異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基等(R17,R18:水素原子、アルキル基、アリール基)Z:-NHSO2-,-SO2NH-Ar:置換基を有してもよい一価の芳香族基X,Arの両方またはどちらかに少なくとも1つ以上の水酸基を含む。
請求項(抜粋):
アルカリ可溶性樹脂、キノンジアジド化合物及び下記一般式(I)で表わされる化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。【化1】
IPC (4件):
G03F 7/022 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/027
FI (4件):
G03F 7/022 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/30 502 R

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