特許
J-GLOBAL ID:200903074100590491

セリウム系酸化物焼結体及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 久保山 隆 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-180371
公開番号(公開出願番号):特開2000-007435
出願日: 1998年06月26日
公開日(公表日): 2000年01月11日
要約:
【要約】【課題】99%以上の相対密度を有する高密度の焼結体を、再現性良く、容易に、しかも安価に調製することが可能であり、工業的な方法としても有効なセリウム系酸化物焼結体の製造方法を提供する。【解決手段】(1)BET比表面積が1.6〜16m2/gであり、累積粒度分布の微粒側から累積10%、累積50%、累積90%の粒径をそれぞれD10、D50、D90としたとき、D50が0.1〜1μで、D90/D10が5以下である粒度分布を有する酸化セリウムを50〜99.9モル%含み、更にセリウム以外の希土類金属酸化物、酸化マグネシウム等の1種以上を0.1〜50モル%含む混合酸化物を成形して焼結温度の範囲が1500°C以上1600°C以下で焼結すること相対密度が99%以上であるセリウム系酸化物焼結体の製造方法。(2)上記(1)記載の製造方法で得られるセリウム系酸化物焼結体。
請求項(抜粋):
BET比表面積が1.6〜16m2/gであり、累積粒度分布の微粒側から累積10%、累積50%、累積90%の粒径をそれぞれD10、D50、D90としたとき、D50が0.1〜1μで、D90/D10が5以下である粒度分布を有する酸化セリウムを50〜99.9モル%含み、更にセリウム以外の希土類金属酸化物、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化ストロンチウム、酸化バリウム、酸化ジルコニウム、酸化ハフニウム、酸化ニオブ、酸化タンタルの1種以上を0.1〜50モル%含む混合酸化物を成形して焼結することを特徴とするセリウム系酸化物焼結体の製造方法。

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