特許
J-GLOBAL ID：200903074108482892
薄膜形成装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
加藤 一男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-230270
公開番号（公開出願番号）：特開平8-078791
出願日： 1994年08月31日
公開日（公表日）： 1996年03月22日
要約：
【要約】【目的】複数のシャッタを有することにより、第1のシャッタを開けた直後の成膜条件のずれを補正し、最適の成膜条件に制御された状態での薄膜形成を可能とする。【構成】薄膜形成装置は、薄膜材料のソースとなる蒸着源1あるいはスパッタ源を収容するソース手段、薄膜形成を行うための基板2あるいはサンプルの支持手段、薄膜形成時の堆積状態を把握するためのモニタ素子4からなる。ソース手段と支持手段の間に、シャッタ3、5が2つ以上具備されている。
請求項（抜粋）：
薄膜を形成するための装置において、薄膜材料のソースとなる蒸着源あるいはスパッタ源を収容するソース手段、薄膜形成を行うための基板あるいはサンプルの支持手段、薄膜形成時の堆積状態を把握するためのモニタ素子からなり、かつ前記ソース手段と前記支持手段の間に、シャッタが2つ以上具備されていることを特徴とする薄膜形成装置。
IPC (5件)：
H01S 3/18
, C23C 14/24
, C23C 14/54
, C30B 23/00
, H01L 21/203
