特許
J-GLOBAL ID：200903074113839391
凹版印刷版の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石川 泰男 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-066958
公開番号（公開出願番号）：特開平5-273742
出願日： 1992年03月25日
公開日（公表日）： 1993年10月22日
要約：
【要約】【目的】 微細な凹部を高い精度で形成することのできる凹版印刷版の製造方法を提供する。【構成】 フォトレジスト層をマスクとして基板にイオンビームを照射し、基板のうちフォトレジスト層非形成部分のみを選択的にエッチングして凹部を形成する。
請求項（抜粋）：
基板表面に所定パターンでフォトレジスト層を形成し、次に、前記基板にイオンビームを照射し前記フォトレジスト層をマスクとして前記基板のフォトレジスト層非形成部分をエッチングして前記基板に凹部を形成することを特徴とする凹版印刷版の製造方法。
IPC (2件)：
G03F 7/00 505
, B41C 1/02
