電子線描画装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小川勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-023556
公開番号（公開出願番号）：特開平5-226232
出願日： 1992年02月10日
公開日（公表日）： 1993年09月03日
要約：

【要約】【構成】外挿補間のための回路23は、レーザ干渉測長器4から偏向アンプ12に至る演算回路系の遅れ時間分のステージ位置保管用の可変長シフトレジスタと演算器等で構成し、追従コントローラ5内部のフィルタ回路18と追従量演算回路20の間に設ける。【効果】ステージ位置データに外挿補間を施すことにより、電子ビーム照射時点でのステージ位置に対するビーム偏向の位置ずれがなくなり、高速で高精度な描画装置が実現できる。

請求項（抜粋）：

計算機により制御され、ステージを連続移動させながら、描画パターンの描画密度に応じて前記ステージの移動速度を変え、所定形状の電子ビームによりレジストにICパターン等を描画する装置において、前記ステージの位置計測時点から前記電子ビームの照射時点までの演算回路系による遅れ時間を補正すべく、一定時間前のステージ位置データから前記電子ビームの照射時点の前記ステージの位置を外挿補間により予測し、補間後の前記ステージ位置データを前記ステージの連続移動のための追従制御に用いたことを特徴とする電子線描画装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G21K 5/04 , H01J 37/305

FI (2件)：

H01L 21/30 341 J , H01L 21/30 341 D

引用特許：

審査官引用 (3件)

特開平1-196824
特開昭62-149126
特開昭61-007626

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