処理液処理方法および基板連続処理装置

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-353330
公開番号（公開出願番号）：特開平10-242047
出願日： 1997年12月22日
公開日（公表日）： 1998年09月11日
要約：

【要約】【課題】処理液を用いて基板の処理を行う装置で、処理液の省液化を行うと同時に基板内での処理の均一性と基板の大量処理を可能にした装置を提供する。【解決手段】基板を連続的に流すことができる搬送装置と、均一に処理液を基板の上面方向から塗布する処理液ノズルと、均一に気体を基板の上面方向から吹き付ける気体の吹き出しノズルの組合せを少なくとも1対具備し、さらに基板の搬送方向に対して最後方で用いた処理液を回収し、前方の処理液ノズルに順に使用することを特徴とする基板連続処理装置。

請求項（抜粋）：

基板を連続的に搬送する装置において、処理液ノズルを用いて該基板に処理液を塗布し、その後、気体を吹き付ける吹き出しノズルを用いて該基板に気体を吹き付け、該基板上に塗布された処理液を基板全面に押し広げる工程、および/または該基板上に塗布された処理液を基板上から除去する工程の一連の順序での処理液処理の組み合わせを1組としたとき、1枚の基板について、該1組の組み合わせによる処理液処理を少なくとも1回行うことを特徴とする基板の処理液処理方法。

IPC (6件)：

H01L 21/027 , B05C 11/06 , G03F 7/30 501 , G03F 7/42 , H01L 21/304 341 , H01L 21/306

FI (7件)：

H01L 21/30 572 B , B05C 11/06 , G03F 7/30 501 , G03F 7/42 , H01L 21/304 341 N , H01L 21/30 569 C , H01L 21/306 R

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