シリカ含有ス-トを形成する方法およびバ-ナ-

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：柳田征史 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-225543
公開番号（公開出願番号）：特開2000-063126
出願日： 1999年08月09日
公開日（公表日）： 2000年02月29日
要約：

【要約】【課題】シリカ含有スートを製造する方法において、高ガス速度を必要とせずに、炎に乱流を与えないように、小さな液滴を含有する集中した流れを提供する。【解決手段】液体のケイ素含有原料および気体を混合チャンバ内で混合して、液体-気体混合物を提供する。この液体-気体混合物をオリフィスから燃焼部位に噴射する。ケイ素含有原料をこの燃焼部位の近くでシリカ含有スートに転化する。

請求項（抜粋）：

シリカ含有スートを製造する方法であって、液体のケイ素含有原料および気体を混合チャンバ内で混合して、液体-気体混合物を提供し、該液体-気体混合物をオリフィスから燃焼部位に噴射し、前記ケイ素含有原料を前記燃焼部位の近くでシリカ含有スートに転化する各工程を含むことを特徴とする方法。

IPC (3件)：

C03B 8/04 , C03B 37/018 , F23D 11/00

FI (3件)：

C03B 8/04 D , C03B 37/018 Z , F23D 11/00 D

引用特許：

出願人引用 (6件)

特開昭56-155034
特開昭56-005337
特開平4-228444

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審査官引用 (6件)

特開昭56-155034
特開昭56-005337
特開平4-228444

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