特許

J-GLOBAL ID：200903074135923434

リソグラフィ・マスクの設計および基板上での多様なプローブの合成

発明者： ハベル,アール・エイ ,  ストリヤー,ルバート ,  ミットマン,マイケル・ピイ
出願人/特許権者： アフィメトリックス・インコーポレーテッド
代理人 (1件)： 山川 政樹 (外5名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-527970
公開番号（公開出願番号）：特表2001-517300
出願日： 1997年12月17日
公開日（公表日）： 2001年10月02日
要約：

【要約】基板上にプローブを合成するシステムおよび方法を用意する。1つまたは複数のシフト・レチクルを利用して、基板の指定の場所に単量体を一様に付加する。シフト・レチクルは、単量体付加の段階と段階の間に、基板に対してシフトされる。さらに、所望のプローブの特性を合成時に指定することができる。

請求項（抜粋）：

基板上にプローブを合成する方法において、 基板上の、少なくとも1つのシフト・レチクルによって指定された場所に単量体を結合する段階と、 前記少なくとも1つのシフト・レチクルを基板に対してシフトさせる段階と、 前記少なくとも1つのシフト・レチクルをシフトさせた後に、前記基板上の、前記少なくとも1つのシフト・レチクルによって指定された場所に単量体を結合する段階と を含み、 単量体を含むプローブを基板上に合成する ことを特徴とする方法。

IPC (5件)：

G01N 33/53 ,  C12Q 1/68 ,  G01N 33/566 ,  C12M 1/00 ,  C12N 15/09

FI (5件)：

G01N 33/53 M ,  C12Q 1/68 A ,  G01N 33/566 ,  C12M 1/00 A ,  C12N 15/00 A