液晶パネル用基板とその製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：森本義弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-027125
公開番号（公開出願番号）：特開平7-175088
出願日： 1994年02月25日
公開日（公表日）： 1995年07月14日
要約：

【要約】【目的】製造工程の簡略化と開口率の改善と視野角の拡大を実現するデバイス構成とプロセスを提供する。【構成】透明導電層とゲート金属層との積層よりなる走査線11と疑似絵素電極36とを形成し、裏面露光で絵素電極36上の絶縁層とゲート金属層とを自己整合的に除去する。裏面露光のマスク材として黒色顔料レジストを採用すると、絵素電極以外は黒色顔料レジストで覆われるのでブラックマトリクスとして活用が図れる。【効果】写真食刻工程を1回分、合理化できると同時に絵素電極上の絶縁層を100%除去できて明るい画像が得られる。またTFT基板上にパシベーション層を配置しなくてもブラックマトリクスを同時に形成することも可能である。

請求項（抜粋）：

透明性絶縁基板の一主面上に複数本の走査線と、少なくとも一層以上の絶縁層を介して前記走査線と概ね直交する複数本の信号線と、走査線と信号線の交点毎に少なくとも一つの絶縁ゲート型トランジスタと絵素電極とを有し、前記絶縁ゲート型トランジスタのゲートを兼ねる走査線が透明導電層と金属層との積層よりなるとともに、前記絶縁ゲート型トランジスタのゲート絶縁層が少なくとも酸化シリコン層を含み、前記絵素電極上の酸化シリコン層を含む絶縁層が絵素電極と自己整合的に除去されていることを特徴とする液晶パネル用基板。

IPC (3件)：

G02F 1/136 500 , G02F 1/1343 , H01L 29/786

引用特許：

審査官引用 (3件)

特開平2-019840
特開平2-166422
特開平2-204717

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