特許

J-GLOBAL ID：200903074143140767

蛍光X線分析装置

発明者： 河原 直樹 ,  青柳 光一
出願人/特許権者： 理学電機工業株式会社
代理人 (1件)： 杉本 修司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-235468
公開番号（公開出願番号）：特開2000-199750
出願日： 1999年08月23日
公開日（公表日）： 2000年07月18日
要約：

【要約】【課題】 検出感度を低下させることなく、従来よりもさらにS/N比を向上させることができ、かつ加工性に優れたコリメータを設けた蛍光X線分析装置を提供する。【解決手段】 試料1と検出手段6との間の蛍光X線5の通路に第1のコリメータ10を設けた蛍光X線分析装置であって、第1のコリメータ10は、試料1側の壁が段状に形成され、この段状の壁11a,11b,11cそれぞれに異なる径の絞り孔12a,12b,12cを有し、試料1上の被測定部の形状の大小に応じて複数の絞り孔12a,12b,12cの中から一つの絞り孔を選択して蛍光X線5の通路に配置したとき、径の小さい絞り孔ほど試料1に接近する。

請求項（抜粋）：

試料と検出手段との間の蛍光X線の通路に第1のコリメータを設けた蛍光X線分析装置であって、前記第1のコリメータは、試料側の壁が段状に形成され、各段の壁に段ごとに異なる径の絞り孔を有し、前記試料上の被測定部の形状の大小に応じて複数の前記絞り孔の中から一つの絞り孔を選択して蛍光X線の通路に配置したとき、径の小さい絞り孔ほど試料に接近する蛍光X線分析装置。

IPC (3件)：

G01N 23/223 ,  G21K 1/02 ,  G21K 1/06

FI (3件)：

G01N 23/223 ,  G21K 1/02 R ,  G21K 1/06 S