ヘキサンジオール-1,6の製法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：矢野敏雄 (外4名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-552067
公開番号（公開出願番号）：特表2002-516889
出願日： 1999年05月10日
公開日（公表日）： 2002年06月11日
要約：

【要約】本発明は、アジピン酸、6-ヒドロキシカプロン酸及び少量の1,4-シクロヘキサンジオールを含有するカルボン酸混合物(これは、シクロヘキサンを、酸素又は酸素を含有するガスを用いて酸化して、シクロヘキサノン/シクロヘキサノールにし、かつ反応混合物の水抽出によって副生成物として得られる)から、ヘキサンジオール-1,6を製造するための方法に関し、この際、a)水性ジカルボン酸混合物中に含有されるモノ-及びジカルボン酸を、低分子のアルコールと反応させて、相応するカルボン酸エステルとし、b)得られるエステル化混合物から、第1蒸留工程で、過剰のアルコール及び易沸点物質を除去し、c)塔底生成物から、第2蒸留工程で、1,4-シクロヘキサンジオールを実際に含まないエステルフラクション及び少なくとも大部分の1,4-シクロヘキサンジオールを含有するフラクションへの分離を実施し、d)実際に1,4-シクロヘキサンジオールを含まないエステルフラクションに、触媒的に水素化し、かつe)純粋蒸留工程で、水素化排出物から、自体公知の方法で、ヘキサンジオール-1,6を得て、この際、本発明により、コバルト20ppm以上及びホスフェートの形の燐40ppm以上を含有する水性ジカルボン酸混合物を使用し、この水性ジカルボン酸混合物を、陽イオン交換体に通し、かつ工程(a)によるエステル化後に陰イオン交換体に通す。

請求項（抜粋）：

アジピン酸、6-ヒドロキシカプロン酸及び少量の1,4-シクロヘキサンジオールを含有するカルボン酸混合物(これは、シクロヘキサンを、酸素又は酸素を含有するガスを用いて酸化して、シクロヘキサノン/シクロヘキサノールにする際に、かつ反応混合物の水抽出によって副生成物として得られる)から、酸のエステル化及び水素化によって、ヘキサンジオール-1,6を製造する方法において、 a)水性ジカルボン酸混合物中に含有されるモノ-及びジカルボン酸を、低分子のアルコールと反応させて、相応するカルボン酸エステルとし、 b)得られるエステル化混合物から、第1蒸留工程で、過剰のアルコール及び低沸点物質を除去し、 c)塔底生成物から、第2蒸留工程で、1,4-シクロヘキサンジオールを実際に含まないエステルフラクション及び少なくとも大部分の1,4-シクロヘキサンジオールを含有するフラクションの分離を実施し、 d)実際に1,4-シクロヘキサンジオールを含まないエステルフラクションを触媒的に水素化し、かつ e)純粋蒸留工程で、水素化排出物から、自体公知の方法で、ヘキサンジオール-1,6を取得するに当たり、コバルト20ppm以上及びホスフェートの形の燐40ppm以上を含有する水性ジカルボン酸混合物を使用し、この水性ジカルボン酸混合物を、陽イオン交換体に通し、かつ工程(a)によるエステル化の後に、陰イオン交換体に通すことを特徴とする、ヘキサンジオール-1,6の製法。

IPC (7件)：

C07C 29/149 , C07C 31/20 , C07C 51/47 , C07C 67/03 , C07C 67/56 , C07C 69/44 , C07C 69/675

FI (7件)：

C07C 29/149 , C07C 31/20 Z , C07C 51/47 , C07C 67/03 , C07C 67/56 , C07C 69/44 , C07C 69/675

Fターム (10件)：

4H006AA02 , 4H006AC41 , 4H006AC48 , 4H006AD11 , 4H006AD17 , 4H006BA20 , 4H006BA53 , 4H006BE20 , 4H006FE11 , 4H006FG29

前のページに戻る