特許

J-GLOBAL ID：200903074162054626

新規な含窒素ペルフルオロアルキルブロミド及びその製造方法

発明者： 深谷 治彦 ,  阿部 隆 ,  林 永二 ,  早川 由夫 ,  馬場 甫
出願人/特許権者： 工業技術院長
代理人 (1件)： 工業技術院名古屋工業技術研究所長
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-078887
公開番号（公開出願番号）：特開平6-122658
出願日： 1992年02月28日
公開日（公表日）： 1994年05月06日
要約：

【要約】【構成】 一般式【化1】(Rf1 、Rf2 はC1〜C5のペルフルオロアルキル基で、両者は直接又はO若しくはNを介して結合し、複素環を形成していてもよい)で表わされる含窒素ペルフルオロアルキルブロミド及び一般式【化2】(Rf1 、Rf2 は前記と同じ意味をもつ)で表わされる含窒素ペルフルオロカルボン酸ブロミドを紫外線照射下に脱カルボニル化して、前記ペルフルオロアルキルブロミドを製造する方法。【効果】 合成中間体や、消火剤、難燃性添加剤、X線造影剤などとして有用な含窒素ペルフルオロアルキルブロミドが、容易に入手しうる原料から簡単な操作で収率よく得られる。

請求項（抜粋）：

一般式【化1】(式中のRf1 及びRf2 はそれぞれ同一又はたがいに異なる炭素数1〜5のペルフルオロアルキル基であって、両者は直接に、あるいは酸素原子又は窒素原子を介して結合し、両者が結合している窒素原子とともに複素環を形成していてもよい)で表わされる含窒素ペルフルオロアルキルブロミド。

IPC (8件)：

C07C211/15 ,  C07D207/10 ,  C07D211/38 ,  C07D223/04 ,  C07D241/04 ,  C07D265/30 ,  C09K 21/10 ,  A61K 49/04

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特開平2-262539