特許

J-GLOBAL ID：200903074181364199

水素ガスの精製装置及び精製方法

発明者： 大津 徹 ,  佐藤 重明
出願人/特許権者： 栗田工業株式会社
代理人 (1件)： 重野 剛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-046890
公開番号（公開出願番号）：特開2004-256328
出願日： 2003年02月25日
公開日（公表日）： 2004年09月16日
要約：

【課題】酸素及び水分を含有する水素ガスを小型で簡易な装置で精製する。【解決手段】パラジウムを担持したイオン交換樹脂が充填された反応容器1に原水素ガスを導入し、パラジウムの触媒作用で酸素を水素と反応させて水として除去し、イオン交換樹脂の吸着作用により生成した水と原ガス中の水分を吸着して除去する。反応容器2には加温した精製ガスを通してイオン交換樹脂から水分を脱着させて再生する。精製と再生とを交互に繰り返す。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

酸素及び水分を含有する原水素ガスから酸素及び水分を除去する水素ガスの精製装置において、 パラジウムを担持したイオン交換樹脂が充填された反応容器と、該反応容器に接続された原水素ガス供給管及び精製水素ガス排出管とを備えてなることを特徴とする水素ガスの精製装置。

IPC (6件)：

C01B3/58 ,  B01D53/02 ,  B01D53/04 ,  B01J20/26 ,  B01J20/34 ,  B01J47/00

FI (6件)：

C01B3/58 ,  B01D53/02 Z ,  B01D53/04 G ,  B01J20/26 A ,  B01J20/34 F ,  B01J47/00 Z

Fターム (21件)：

4D012BA01 ,  4D012CA01 ,  4D012CA07 ,  4D012CB16 ,  4D012CD01 ,  4D012CG01 ,  4D012CH05 ,  4D012CJ03 ,  4G066AC11B ,  4G066AE10B ,  4G066CA43 ,  4G066DA05 ,  4G066GA06 ,  4G066GA16 ,  4G140FA04 ,  4G140FB02 ,  4G140FB03 ,  4G140FC02 ,  4G140FC07 ,  4G140FD05 ,  4G140FE01

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 微量酸素の除去方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-252386   出願人：日本酸素株式会社