特許

J-GLOBAL ID：200903074189336550

パターン形成用積層被膜、その積層被膜の製造方法及びその被膜を使用したパターン形成方法

発明者： 小嶋 大輔 ,  小松 隆信 ,  今井 玄児
出願人/特許権者： 関西ペイント株式会社 ,  富士通株式会社
代理人 (1件)： 小田島 平吉 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-317923
公開番号（公開出願番号）：特開2001-133972
出願日： 1999年11月09日
公開日（公表日）： 2001年05月18日
要約：

【要約】【課題】 パターン形成用積層被膜、その積層被膜の製造方法及びその被膜を使用したパターン形成方法を提供する。【解決手段】 基材表面にネガ型もしくはポジ型感熱線性樹脂被膜層(A)、熱線を透過するシート層(B)、及び熱線吸収剤を含有する感エネルギー線被膜層(C)を順次積層してなることを特徴とするパターン形成用積層被膜。

請求項（抜粋）：

基材表面にネガ型もくはポジ型感熱線性樹脂被膜層(A)、熱線を透過するシート層(B)、及び熱線を遮蔽する感エネルギー線被膜層(C)を順次積層してなることを特徴とするパターン形成用積層被膜。

IPC (4件)：

G03F 7/004 512 ,  C08F 2/46 ,  G03F 7/40 521 ,  H05K 3/06

FI (4件)：

G03F 7/004 512 ,  C08F 2/46 ,  G03F 7/40 521 ,  H05K 3/06 H

Fターム (50件)：

2H025AA01 ,  2H025AA19 ,  2H025AA20 ,  2H025AB15 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BC13 ,  2H025BC42 ,  2H025BD23 ,  2H025BE01 ,  2H025CA00 ,  2H025CB42 ,  2H025CC09 ,  2H025DA03 ,  2H025DA40 ,  2H025EA08 ,  2H025FA17 ,  2H025FA39 ,  2H096AA26 ,  2H096BA01 ,  2H096BA09 ,  2H096CA20 ,  2H096EA04 ,  2H096GA08 ,  4J011QA48 ,  4J011QB14 ,  4J011QB23 ,  4J011RA03 ,  4J011RA07 ,  4J011RA10 ,  4J011SA01 ,  4J011SA21 ,  4J011SA63 ,  4J011SA76 ,  4J011SA78 ,  4J011SA79 ,  4J011SA86 ,  4J011UA01 ,  4J011WA01 ,  5E339CC01 ,  5E339CC02 ,  5E339CC10 ,  5E339CD01 ,  5E339CE12 ,  5E339CE16 ,  5E339CF02 ,  5E339CF06 ,  5E339CF17 ,  5E339DD05