特許
J-GLOBAL ID：200903074202080900
位置合わせ方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-016115
公開番号（公開出願番号）：特開平7-226359
出願日： 1994年02月10日
公開日（公表日）： 1995年08月22日
要約：
【要約】【目的】 ウエハ上のサンプルショットの位置を予め計測して得られた結果を統計処理して、各ショット領域の位置合わせを行う際に、アライメント誤差の非線形成分の大きい跳びショットを正確に排除して、高精度に位置合わせする。【構成】 サンプルショットSA1 〜SAN についてアライメント誤差の非線形成分の3σの値E(N) を求め、それらサンプルショットから順次1番目、2番目、...、N番目のサンプルショットを排除した場合の(N-1)個のサンプルショット毎のアライメント誤差の非線形成分の3σの値E(N-1,i) の最小値E(N-1,h) を求める。E(N-1,h) がE(N) より小さいときに、h番目のサンプルショットを排除(リジェクト)する。
請求項（抜粋）：
基板上に設定された第1の座標系上の配列座標に基づいて前記基板上に配列された複数の被加工領域の各々を、前記基板の移動位置を規定する第2の座標系内の所定の加工位置に対して位置合わせする方法において、前記複数の被加工領域の内、予め選択されたN個(Nは2以上の整数)のサンプル領域の前記第2の座標系上の座標位置を計測する第1工程と;該第1工程で計測された座標位置に基づいて前記N個のサンプル領域のそれぞれの座標位置の設計上の位置からのずれ量の非線形成分を求め、該N個の非線形成分のばらつきを求める第2工程と;前記N個のサンプル領域から所定の1個のサンプル領域を除いた(N-1)個のサンプル領域について、前記第1工程で計測された座標位置に基づいてそれぞれの座標位置のずれ量の非線形成分を求め、該(N-1)個の非線形成分のばらつきを求める第3工程と;該第3工程で求められた非線形成分のばらつきが前記第2工程で求められた非線形成分のばらつきより小さいときに、前記第3工程で使用された(N-1)個のサンプル領域を計算用のサンプル領域とし、前記第3工程で求められた非線形成分のばらつきが前記第2工程で求められた非線形成分のばらつき以上であるときに、前記N個のサンプル領域を計算用のサンプル領域とする第4工程と;該第4工程で選択された前記計算用のサンプル領域について前記第1工程で計測された座標位置を統計処理して前記基板上の前記複数の被加工領域の各々の前記第2の座標系上における配列座標を算出する第5工程と;を有することを特徴とする位置合わせ方法。
IPC (2件)：
FI (4件)：
H01L 21/30 525 R
, H01L 21/30 525 W
, H01L 21/30 525 X
, H01L 21/30 525 L
