超平滑膜の製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：北村欣一 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-334252
公開番号（公開出願番号）：特開平11-172429
出願日： 1997年12月04日
公開日（公表日）： 1999年06月29日
要約：

【要約】【課題】表面粗さの極めて小さい平滑膜を得ること。【解決手段】スパッタリング法で基板上に超平滑膜を作製する際に、カソードでの放電を、従来の放電圧力より低い状態の放電圧力において、カソード近傍にマグネトロン放電を支援するrf誘導結合放電用コイルを設けた機構を用いて行うこと。

請求項（抜粋）：

スパッタリング法で基板上に超平滑膜を作製する方法において、カソードでの放電を、従来の放電圧力より低い状態の放電圧力において、カソード近傍にマグネトロン放電を支援するrf誘導結合放電用コイルを設けた機構を用いて行い、基板上に超平滑膜を作製することを特徴とする超平滑膜の製造方法。

IPC (3件)：

C23C 14/34 , C23C 14/35 , H01L 21/203

FI (3件)：

C23C 14/34 M , C23C 14/35 Z , H01L 21/203 S

引用特許：

審査官引用 (3件)

引用文献：

審査官引用 (1件)

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