特許
J-GLOBAL ID：200903074215052132
プラズマ発生装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
池内 寛幸 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-267037
公開番号（公開出願番号）：特開平7-122495
出願日： 1993年10月26日
公開日（公表日）： 1995年05月12日
要約：
【要約】【目的】 大面積の基板に均一な薄膜を高速に形成することのできるプラズマ発生装置を提供する【構成】 同軸導波管10a、10bの外周を導体板11に接続する。同軸導波管10a、10bの内軸を誘電体板13を通して銅線14の両端に接続する。同軸導波管10aに全反射終端等を接続し、同軸導波管10bにマイクロ波の電源を接続する。銅線14を、誘電体板13上でジグザグ状に折り曲げてストリップライン型電極を形成する。ガス管12a、12bをストリップライン型電極の両側方に対向して配置し、ストリップライン型電極側に向けて複数個のガス導出孔を穿設する。ストリップライン型電極の両端部に永久磁石15a、15bを配置し、Z軸方向の磁界を発生させる。ストリップライン型電極の上方に基板16を配置し、矢印Aの方向に移動させる。
請求項（抜粋）：
内部が減圧状態に保持される真空槽と、前記真空槽内に反応ガスを導入する手段と、前記真空槽内を排気する手段と、前記真空槽内に高周波電力を導入する接続手段と、前記真空槽内の前記接続手段に取り付けられた導体板と、前記導体板の上に設けられた誘電体板と、前記誘電体板の上に配置され、導体をジグザグ状に折り曲げて形成したストリップライン型電極と、前記ストリップライン型電極の近傍に磁界を発生させる磁界発生手段とを少なくとも備えたプラズマ発生装置。
IPC (3件)：
H01L 21/205
, H05H 1/46
, C23C 16/50
