特許

J-GLOBAL ID：200903074218577562

スパッタリング用ターゲットおよびその製造方法

発明者： 平川 英司 ,  平木 明敏
出願人/特許権者： 日立金属株式会社
代理人 (1件)： 大場 充
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-201399
公開番号（公開出願番号）：特開平8-049069
出願日： 1994年08月03日
公開日（公表日）： 1996年02月20日
要約：

【要約】【目的】 パーティクルの発生が少ないTiNxターゲットを提供する。【構成】 本発明のターゲットは、実質的にチタンと窒素から構成され、チタンに対する窒素の原子量比N/Tiが0.30ないし0.60であり、ターゲットの相対密度が99.5%以上、抗折強度が350Mpa以上であることを特徴とするターゲットである。本発明は、ターゲット組織中にチタン濃度の高い部分が分散していることが望ましい。本発明のターゲットは、チタンの窒化物粉末とチタン粉末あるいは水素化チタン混合した後、温度1300°C以上、圧力150MPa以上の条件で熱間静水圧プレスにより得ることができる。

請求項（抜粋）：

実質的にチタンと窒素から構成され、チタンに対する窒素の原子量比N/Tiが0.30ないし0.60であり、ターゲットの相対密度が99.5%以上、抗折強度が350MPa以上であることを特徴とするスパッタリング用ターゲット。

IPC (4件)：

C23C 14/34 ,  C01B 21/076 ,  C22C 1/05 ,  C22C 29/16