特許
J-GLOBAL ID：200903074237336495
積層造形法および積層造形装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高崎 芳紘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-075336
公開番号（公開出願番号）：特開2004-284025
出願日： 2003年03月19日
公開日（公表日）： 2004年10月14日
要約：
【課題】細密構造を有する目的造形物でも高精度な造形を可能とする積層造形法の提供。【解決手段】積層造形法では、目的造形物の断層構造として得られる造形データに基づいた制御部21からの制御により造形材料14の薄層にレーザ光5を走査させながら選択的に照射し、このレーザ光の選択的照射部分で造形材料に結合や硬化を生じさせつつ造形パターンに対応した輪郭形状の結合部分や硬化部分からなる単位造形層15を形成する操作を順次繰り返し、この繰り返し形成の単位造形層の積層により目的造形物の造形をなす。このような積層造形法について、レーザ光の走査方向に関する幅が所定以下である造形パターン部分に対して、その幅に相関させたレーザ光の照射制御を細密部照射制御手段22に行なわせるようにしている。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
目的造形物を仮想的に多数の層にスライスすることで前記目的造形物の中実部分に対応する造形パターンの前記スライス数に応じた集まりとして得られる造形データに基づいた制御により造形材料の薄層にレーザ光を走査させながら選択的に照射し、このレーザ光の選択的照射部分で前記造形材料に結合や硬化を生じさせつつ前記造形パターンに対応した輪郭形状の結合部分や硬化部分からなる単位造形層を形成する操作を順次繰り返し、この繰り返し形成の単位造形層の積層により前記目的造形物の造形をなす積層造形法において、
前記レーザ光の走査方向に関する造形幅Wが所定以下で、かつ前記レーザ光の走査の幅が前記造形幅Wとなる前記造形パターン部分に対して、前記造形幅Wに相関させてレーザ光の照射条件を制御するようにしたことを特徴とする積層造形法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (11件)：
4F213AA44
, 4F213WL03
, 4F213WL13
, 4F213WL44
, 4F213WL76
, 4F213WL85
, 4F213WL92
, 4K018BC30
, 4K018DA23
, 4K018KA53
, 4K018KA63
