特許
J-GLOBAL ID:200903074250450124
歯みがき組成物
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
佐藤 一雄 (外3名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-511894
公開番号(公開出願番号):特表平10-506629
出願日: 1995年09月25日
公開日(公表日): 1998年06月30日
要約:
【要約】新規の研磨剤を含有する口腔用ゲル、練り歯みがきなどの口腔用組成物。(a)沈降シリカ〔ただし、該沈降シリカは軟質の粒子の狭い粒径範囲分布を有し且つ平均粒径8〜14μm、好ましくは7〜11μm、吸油量60〜120cc/100gおよび水銀圧入(HGI)ボイド容量1.0〜4.0cc/gを有する低構造沈降シリカであり;前記沈降シリカは、歯みがきに処方する時に、ペリクルクリーニング比(PCR)70〜140および放射性象牙質摩耗(RDA)値60〜130を有し;且つ前記PCR対前記RDAの比率は少なくとも1:1であり;粒径(μm)が前記シリカ中で増大する時に、RDA値は実質上一定のままである〕、および(b)口腔上許容可能な歯みがき担体0.1%〜99%を含むことを特徴とする歯みがき組成物。
請求項(抜粋):
(a)沈降シリカであって、該沈降シリカが軟質の粒子の狭い粒径範囲分布を有し、且つ、平均値(MV)粒径8〜14μm、好ましくは7〜11μm、吸油量60〜120cc/100gおよび水銀圧入(HGI)ボイド容量1.0〜4.0cc/gを有する低構造沈降シリカであり、前記沈降シリカが、歯みがきに処方する時に、ペリクルクリーニング比(PCR)70〜140および放射性象牙質摩耗(RDA)値60〜130を有し、且つ前記PCR対前記RDAの比率は少なくとも1:1であり、粒径(μm)が前記シリカ中で増大する時にRDA値が実質上一定のままであるもの、および (b)口腔上許容可能な歯みがき担体0.1%〜99%を含んでなることを特徴とする、歯みがき組成物。
引用特許:
審査官引用 (5件)
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沈降珪酸およびその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-012402
出願人:デグッサアクチェンゲゼルシャフト
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特開昭54-086636
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特開昭63-139014
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特開昭61-024514
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シリカ研磨組成物
公報種別:公表公報
出願番号:特願平8-533426
出願人:ジエイエムヒユーバーコーポレイシヨン
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