特許
J-GLOBAL ID:200903074254725640

ハイドレート処理装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 田中 重光 ,  石川 新
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-111788
公開番号(公開出願番号):特開2005-290334
出願日: 2004年04月06日
公開日(公表日): 2005年10月20日
要約:
【課題】 装置構成が簡単となり、コンパクト化が可能で安価に製作することができると共に、ランニングコストが安くハイドレートの処理効率を向上させることができ、取り扱いも容易なハイドレート処理装置を提供する。【解決手段】 軸方向に移送しながら混合する移送混合手段が収納され、先端部にはハイドレートを供給するハイドレート供給口と、後端部にはハイドレートを排出するハイドレート排出口を有する容器本体の先端部に、ハイドレート形成物質を含むガスを供給するガス供給口を設けると共に、容器本体の外周に冷媒用空間を設け、該冷媒用空間内に冷却用の冷媒を供給せしめるようにした。 また、移送混合手段をパドル式またはリボン式とし、容器本体の先端部にスクリュープレス型脱水装置を連接し、共通の駆動部で回転軸を駆動するようにした。【選択図】 図3
請求項(抜粋):
軸方向に移送しながら混合する移送混合手段が収納され、先端部にはハイドレートを供給するハイドレート供給口と、後端部にはハイドレートを排出するハイドレート排出口を有する容器本体の先端部に、ハイドレート形成物質を含むガスを供給するガス供給口を設けると共に、容器本体の外周に冷媒用空間を設け、該冷媒用空間内に冷却用の冷媒を供給せしめるようにしたことを特徴とするハイドレート処理装置。
IPC (3件):
C10L3/06 ,  C07B61/00 ,  F25D9/00
FI (3件):
C10L3/00 A ,  C07B61/00 C ,  F25D9/00 B
Fターム (7件):
3L044BA02 ,  3L044CA01 ,  3L044DB02 ,  3L044KA02 ,  4H006AA04 ,  4H006AD40 ,  4H006BD81
引用特許:
出願人引用 (1件)

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