特許
J-GLOBAL ID：200903074261076429
シワの測定方法及び装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
宇井 正一 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-263654
公開番号（公開出願番号）：特開平7-116146
出願日： 1993年10月21日
公開日（公表日）： 1995年05月09日
要約：
【要約】【目的】 皮膚の表面のシワの状態を定量的に評価するための方法と装置に関し、シワ、小ジワを別々に抽出し、定量的に評価することのできるシワの測定方法及び装置を提供することを目的とする。【構成】 皮膚表面の3次元計測により3次元データを得、指定された断面について1次フーリエ変換を実行してパワースペクトルを表示し、シワ領域、小ジワ領域を分離する罫線44を指定して分離し、それぞれをフーリエ逆変換することにより、シワ成分及び小ジワ成分の断面データとし、シワ及び小ジワの幅、深さ及び断面積を数値的に算出する。
請求項（抜粋）：
皮膚表面の凹凸を2次元平面上の各点における高さの値からなる3次元形状データとして測定し、該3次元形状データをフーリエ交換して周波数領域のデータを算出し、該周波数領域のデータから小ジワの周波数及びシワの周波数に相当する領域のデータをそれぞれ抽出し、該抽出された小ジワの周波数領域及びシワの周波数領域のデータをそれぞれフーリエ逆交換して小ジワのデータ及びシワのデータを算出するステップを具備することを特徴とするシワの測定方法。
IPC (3件)：
A61B 5/107
, G01B 11/24
, G06T 7/00
A61B 5/10 300 Q
, G06F 15/70 330 F
