特許
J-GLOBAL ID:200903074268220363

光触媒機能を有する被膜の形成方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 大川 宏
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-216986
公開番号(公開出願番号):特開2001-038285
出願日: 1999年07月30日
公開日(公表日): 2001年02月13日
要約:
【要約】【課題】 従来の光触媒機能を有する被膜の形成方法よりも、さらに耐摩耗性に優れた光触媒機能を有する被膜を容易に形成する。【解決手段】 樹脂製基材1の表面上に有機系組成物からなる未硬化下地層2aを形成した後、該有機系組成物を重合させて未硬化下地層2aを樹脂製基材1より硬度の高い下地層2とする工程と、未硬化下地層2a又は該下地層2上に、主として加水分解性4官能シラン誘導体から調製されたシリコーン系重合硬化組成物を用いて未硬化中間層3aを形成した後、該シリコーン系重合硬化組成物を重合させて該未硬化中間層3aを中間層3とする工程と、中間層3上に光触媒層4を形成する工程とから光触媒被膜を形成する。この方法では、硬度の極めて高い中間層がクラックを生じることなく形成されるため、優れた耐摩耗性を有する光触媒機能を有する被膜が形成される。
請求項(抜粋):
樹脂製基材の表面上に、有機系組成物からなる未硬化下地層を形成した後、該有機系組成物を重合させて、該未硬化下地層を該樹脂製基材より硬度の高い下地層とする下地層形成工程と、該未硬化下地層又は該下地層上に、主として加水分解性4官能シラン誘導体から調製されたシリコーン系重合硬化組成物を用いて未硬化中間層を形成した後、該シリコーン系重合硬化組成物を重合させて該未硬化中間層を中間層とする中間層形成工程と、該中間層上に光触媒が含まれる光触媒層を形成する光触媒層形成工程と、から構成されることを特徴とする光触媒機能を有する被膜の形成方法。
IPC (3件):
B05D 5/00 ,  C08J 7/04 ,  B32B 9/00
FI (3件):
B05D 5/00 H ,  C08J 7/04 Z ,  B32B 9/00 A
Fターム (47件):
4D075AE03 ,  4D075AE15 ,  4D075AE17 ,  4D075BB46Z ,  4D075CA02 ,  4D075DB31 ,  4D075EA19 ,  4D075EA21 ,  4D075EA60 ,  4D075EB13 ,  4D075EB42 ,  4D075EB43 ,  4F006AA36 ,  4F006AB24 ,  4F006AB39 ,  4F006AB68 ,  4F006BA10 ,  4F006BA11 ,  4F100AA01C ,  4F100AA21 ,  4F100AK01A ,  4F100AK01B ,  4F100AK25 ,  4F100AK25B ,  4F100AK45 ,  4F100AK52B ,  4F100AK52C ,  4F100AR00D ,  4F100AT00A ,  4F100BA04 ,  4F100BA07 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10D ,  4F100EH46 ,  4F100EH462 ,  4F100EJ012 ,  4F100EJ08B ,  4F100EJ082 ,  4F100EJ54 ,  4F100JB07 ,  4F100JB13C ,  4F100JB14B ,  4F100JK06 ,  4F100JK09 ,  4F100JK12 ,  4F100JL08 ,  4F100JL08D
引用特許:
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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