特許
J-GLOBAL ID:200903074273228500
アンモニアガスの連続精製方法および装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
大石 征郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-385797
公開番号(公開出願番号):特開2003-183021
出願日: 2001年12月19日
公開日(公表日): 2003年07月03日
要約:
【要約】【課題】 純度99.9%程度の安価な工業用の粗アンモニアガスまたは回収アンモニアガスを、アンモニアの使用個所で、半導体製造工程で使用可能な純度99.999〜 99.9999%以上の高純度アンモニアに直接かつ連続的に精製する方法、およびそのための装置を提供することを目的とする。【解決手段】 工程Aにおいては、酸化バリウム系水分除去剤を充填した実質的に室温下の脱水塔(3) に粗アンモニアガスを導入し、該ガス中に含まれる水分を反応除去する。工程Bにおいては、蒸留塔(4) の中間部還流部(42)に前記工程Aにより水分が除去されたアンモニアガスを導入して、上部凝縮冷却部(41)でアンモニアガスを液化すると共に低沸点不純物を分離しながら、液化物を下部貯留部(43)まで流下させて実質的に高純度のアンモニアとなし、さらに、貯留された液体に含まれる微量不純物を最下部沸騰加熱部(44)で沸騰により追い出す。
請求項(抜粋):
水分と、アンモニアよりも沸点の低い低沸点不純物とを含む粗アンモニアガスを連続的に精製する方法であって、酸化バリウム系水分除去剤を充填した実質的に室温下の脱水塔(3) に粗アンモニアガスを導入し、その粗アンモニアガス中に含まれる水分を反応除去する工程Aを実施すること、および、上部凝縮冷却部(41)、中間部還流部(42)、下部貯留部(43)、最下部沸騰加熱部(44)に区画され、かつ上部には不純物を含むアンモニアガスの排出部(45)、下部には精製された液化アンモニアの取出部(46)を備えた蒸留塔(4) を用い、該蒸留塔(4) の中間部還流部(42)に前記工程Aにより水分が除去されたアンモニアガスを導入して、上部凝縮冷却部(41)でアンモニアガスを液化すると共に低沸点不純物を分離しながら、液化物を下部貯留部(43)まで流下させて実質的に高純度のアンモニアとなし、さらに、貯留された液体に含まれる微量不純物を最下部沸騰加熱部(44)で沸騰により追い出す工程Bを実施することを特徴とするアンモニアガスの連続精製方法。
IPC (3件):
C01C 1/02
, B01D 53/26 101
, B01D 53/28
FI (3件):
C01C 1/02 E
, B01D 53/26 101 D
, B01D 53/28
Fターム (8件):
4D052AA02
, 4D052CE00
, 4D052GA03
, 4D052GB00
, 4D052HA00
, 4D052HA02
, 4D052HA49
, 4D052HB02
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