特許
J-GLOBAL ID:200903074273779522
薬液処理方法および薬液処理装置
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-347628
公開番号(公開出願番号):特開平11-174688
出願日: 1997年12月17日
公開日(公表日): 1999年07月02日
要約:
【要約】【課題】均一な薬液処理、および泡沫やミストなどによる斑点状のムラを解消する薬液処理方法ならびに薬液処理装置を提供する。【解決手段】被処理物上に薬液を供給し、該被処理物上に薬液を保持したまま所定の時間搬送することによって被処理物を薬液処理することを特徴とする薬液処理方法。
請求項(抜粋):
被処理物上に薬液を供給し、該被処理物上に薬液を保持したまま所定の時間搬送することによって被処理物を薬液処理することを特徴とする薬液処理方法。
IPC (5件):
G03F 7/30 501
, B05C 13/00
, G02B 5/20 101
, H01L 21/027
, H01L 21/304 643
FI (6件):
G03F 7/30 501
, B05C 13/00
, G02B 5/20 101
, H01L 21/304 643 B
, H01L 21/30 569 D
, H01L 21/30 572 B
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