特許
J-GLOBAL ID:200903074297731040
ウエハの歪修正装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
後藤 洋介 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-238815
公開番号(公開出願番号):特開2001-068429
出願日: 1999年08月25日
公開日(公表日): 2001年03月16日
要約:
【要約】【課題】 半導体ウエハに発生した歪を修正するウエハの歪修正装置を提供する。【解決手段】 制御部14は、X-Yステージ駆動部11-2を制御して、ステージ本体11-1を順次移動させながら、歪量計測部12にウエハ15の歪量を測定させ、歪量マップを作成させる。その後、歪量マップに基づいて、X-Yステージ駆動部11-2を制御し、ウエハの歪が生じている領域にYAGレーザ発振器13からの修正用レーザ光を照射する。ウエハの修正用レーザ光が照射された領域では、反りが生じ歪が修正される。
請求項(抜粋):
ウエハを移動させるためのX-Yステージと、前記ウエハの歪量を計測するための歪計測手段と、前記ウエハに生じた歪にレーザ光を照射するためのレーザ発振器と、前記X-Yステージ、前記歪計測手段、及び前記レーザ発振器を制御して、前記ウエハの歪にレーザ光を照射させ、前記ウエハの歪を修正する制御手段とを備えていることを特徴とするウエハの歪修正装置。
IPC (5件):
H01L 21/268
, B23K 26/00
, G01B 11/16
, H01L 21/3065
, B23K101:42
FI (5件):
H01L 21/268 E
, H01L 21/268 T
, B23K 26/00 A
, G01B 11/16 Z
, H01L 21/302 B
Fターム (28件):
2F065AA47
, 2F065AA65
, 2F065CC19
, 2F065DD00
, 2F065FF44
, 2F065GG05
, 2F065HH04
, 2F065HH13
, 2F065JJ18
, 2F065LL04
, 2F065LL20
, 2F065LL30
, 2F065LL46
, 2F065MM03
, 2F065MM07
, 2F065TT08
, 4E068AH00
, 4E068CC00
, 4E068CC01
, 4E068CE04
, 4E068DA10
, 5F004AA11
, 5F004AA16
, 5F004BB03
, 5F004BB31
, 5F004CA05
, 5F004CA09
, 5F004CB09
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