特許
J-GLOBAL ID：200903074298209232
高強度を有する光記録保護膜形成用スパッタリングターゲット
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
富田 和夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-090460
公開番号（公開出願番号）：特開平10-280138
出願日： 1997年04月09日
公開日（公表日）： 1998年10月20日
要約：
【要約】【課題】 光ビームを用いて情報の記録および消去を行う光ディスクなどの光メディアに用いられる保護膜を形成するための硫化亜鉛-二酸化ケイ素焼結体からなる高強度を有する光記録保護膜形成用スパッタリングターゲットを提供する。【解決手段】平均粒径:10〜100μmの二酸化ケイ素粉末2の表面に二酸化ケイ素粉末2の平均粒径の3〜20%の平均厚さを有する硫化亜鉛皮膜5を被覆してなる二酸化ケイ素複合粉末4が、10〜30vol%の割合で硫化亜鉛の素地1中に均一分散している組織を有する
請求項（抜粋）：
二酸化ケイ素粉末の表面に硫化亜鉛皮膜を被覆してなる二酸化ケイ素複合粉末が、硫化亜鉛の素地中に均一分散している組織を有することを特徴とする高強度を有する光記録保護膜形成用スパッタリングターゲット。
IPC (3件)：
C23C 14/34
, C04B 35/547
, G11B 7/26
C23C 14/34 A
, G11B 7/26
, C04B 35/00 T
