特許

J-GLOBAL ID：200903074303812813

基板処理装置

発明者： 原 大介 ,  圷 則夫 ,  能戸 幸一 ,  松永 建久
出願人/特許権者： 株式会社日立国際電気
代理人 (1件)： 和泉 良彦 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-075642
公開番号（公開出願番号）：特開2002-280436
出願日： 2001年03月16日
公開日（公表日）： 2002年09月27日
要約：

【要約】【課題】 設置面積を小さくし、また製造コストを安価にする。【解決手段】 エレベータのスライドブロック11にプレート12を取り付け、プレート12にブロック14を取り付け、ブロック14に中心線が垂直方向の回転軸17、軸18を介してアーム15、16を回動可能に取り付け、回転軸17をアーム15に固定し、アーム15、16の先端部に中心線が垂直方向の軸21、22を介して回動可能にプレート23を取り付け、プレート23にクランプ装置24を取り付け、プレート12にモータ19、減速機20を取り付け、モータ19の出力軸に減速機20の入力軸を連結し、減速機20の出力軸を回転軸17に連結する。

請求項（抜粋）：

ポッドを載置するポッドステージと、上記ポッドの蓋を開閉するポッドオープナと、上記ポッドステージと上記ポッドオープナとの間で上記ポッドを搬送するポッド搬送装置と、上記ポッド搬送装置を垂直方向に移動させるエレベータとを有し、上記ポッドステージと上記ポッドオープナとは、上記エレベータの周囲に上記エレベータとの距離が等しくなるような位置にそれぞれ配置され、上記ポッドの搬送の際、上記ポッドの基板取り出し口の向きは常に一方向を向くように構成されていることを特徴とする基板処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/68 ,  B65G 49/07 ,  H01L 21/205

FI (3件)：

H01L 21/68 A ,  B65G 49/07 L ,  H01L 21/205

Fターム (16件)：

5F031DA08 ,  5F031DA17 ,  5F031FA03 ,  5F031FA11 ,  5F031FA17 ,  5F031GA42 ,  5F031GA47 ,  5F031GA49 ,  5F031MA28 ,  5F031NA10 ,  5F045BB08 ,  5F045DP19 ,  5F045DQ04 ,  5F045EB02 ,  5F045EB08 ,  5F045EN05