特許
J-GLOBAL ID:200903074305477647

2-置換ピリジン類の製法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 千田 稔 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-128401
公開番号(公開出願番号):特開平11-335353
出願日: 1999年05月10日
公開日(公表日): 1999年12月07日
要約:
【要約】【課題】 2-置換ピリジン類の製法を提供する。【解決手段】 式(I)【化1】の2-置換ピリジンの製造方法であって、(i)式(II)【化2】の2-置換ピリジンを、sec-ブチルリチウムと反応させ、式(III)【化3】の2-リチオピリジン中間体を製造し、さらに(ii)式(III)の2-リチオピリジン中間体を求電子剤と反応させ、式(I)の2-置換ピリジンを製造する工程を含む、式(I)の2-置換ピリジンの製造方法〔式中、Xはブロモまたはヨードであり、各Yは、用いられる反応条件下でリチウム化合物と反応しない基であり、さらにZは、求電子剤の残基である。〕が開示される。
請求項(抜粋):
式(I)【化1】の2-置換ピリジンの製造方法であって、(i)式(II)【化2】の2-置換ピリジンを、sec-ブチルリチウムと反応させ、式(III)【化3】の2-リチオピリジン中間体を製造し、さらに(ii)式(III)の2-リチオピリジン中間体を求電子剤と反応させ、式(I)の2-置換ピリジンを製造する工程を含む、式(I)の2-置換ピリジンの製造方法〔式中、Xはブロモまたはヨードであり、各Yは、用いられる反応条件下でリチウム化合物と反応しない基であり、さらにZは、求電子剤の残基である。〕。
IPC (7件):
C07D213/16 ,  C07D213/24 ,  C07D213/50 ,  C07D213/61 ,  C07D213/63 ,  C07D213/70 ,  C07D213/78
FI (7件):
C07D213/16 ,  C07D213/24 ,  C07D213/50 ,  C07D213/61 ,  C07D213/63 ,  C07D213/70 ,  C07D213/78

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