特許

J-GLOBAL ID：200903074308539180

有機EL素子、露光装置、発光装置の製造方法

発明者： 齋藤 康行
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 渡辺 敬介 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-152030
公開番号（公開出願番号）：特開2002-343567
出願日： 2001年05月22日
公開日（公表日）： 2002年11月29日
要約：

【要約】【課題】 簡易な方法で電極断線部・抜け部を埋め込み、非発光部(ダークスポット)の成長を防ぐことができる有機EL素子の製造方法、さらには該有機EL素子をアレー状やマトリクス状等に配置した構成を有する露光装置及び発光装置等の製造方法を提供する。【解決手段】 透明基板501上に形成された電極層502の欠陥部503に、非導電性材料を含有する液滴505を吐出し、欠陥部503に入り込んだ液滴の溶媒を加熱蒸発させ、非導電性膜を形成し、欠陥部を充填することを特徴とする。

請求項（抜粋）：

少なくとも一方が透明または半透明の対向する一対の電極層間に一層または複数層の有機化合物層を有する有機EL素子の製造方法において、前記電極層の欠陥部に、非導電性膜を充填する工程を有することを特徴とする有機EL素子の製造方法。

IPC (4件)：

H05B 33/10 ,  B41J 2/01 ,  G09F 9/00 352 ,  H05B 33/14

FI (4件)：

H05B 33/10 ,  G09F 9/00 352 ,  H05B 33/14 A ,  B41J 3/04 101 Z

Fターム (17件)：

2C056FB01 ,  3K007AB11 ,  3K007AB18 ,  3K007BA06 ,  3K007CA01 ,  3K007CB01 ,  3K007DA01 ,  3K007DB03 ,  3K007EB00 ,  3K007FA01 ,  5G435AA14 ,  5G435AA17 ,  5G435BB05 ,  5G435CC09 ,  5G435HH14 ,  5G435HH15 ,  5G435KK05