特許

J-GLOBAL ID：200903074324439462

記録媒体の表面処理方法

発明者： 板井 雄一郎 ,  片山 眞樹 ,  笠松 祥治
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 山▲崎▼ 薫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-194373
公開番号（公開出願番号）：特開2003-006844
出願日： 2001年06月27日
公開日（公表日）： 2003年01月10日
要約：

【要約】【課題】 記録媒体上でできる限り腐食痕の発生を抑制することができる記録媒体の表面処理方法を提供する。【解決手段】 潤滑剤膜23の形成後に記録媒体22の表面は塩基31に曝される。記録媒体22が塩基31に曝されると、記録媒体22の表面や潤滑剤膜23中に存在する有機酸32は塩33に変換されることができる。こうして記録媒体22の表面や潤滑剤膜23中から有機酸32は洗い落とされる。有機酸32の減少は長期間にわたって腐食痕の発生を防止する。

請求項（抜粋）：

記録媒体の表面に形成される潤滑剤膜に向けて紫外線を照射する工程と、紫外線の照射後に塩基に記録媒体を曝す工程とを備えることを特徴とする記録媒体の表面処理方法。

IPC (2件)：

G11B 5/84 ,  G11B 5/725

FI (2件)：

G11B 5/84 B ,  G11B 5/725

Fターム (6件)：

5D006AA01 ,  5D006DA03 ,  5D006FA01 ,  5D112AA07 ,  5D112AA24 ,  5D112BC02

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭63-175225
  
• 磁気記録媒体の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-226816   出願人：三菱化学株式会社
• 磁気記録媒体及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-320221   出願人：富士通株式会社
• 特開平2-270127